integrated cvd coating machine (4) オンライン メーカー
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前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング装置の大きさ: カスタマイズ可能
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塗装方法: 化学蒸気堆積 (CVD)
総電源: 約40/50/60/80KW
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
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