logo
家へ
製品
珪華のヒップの炉
ガス圧力焼結炉
真空の焼結炉
MIM焼結炉
金属の焼結炉
産業真空の炉
高温真空の炉
真空の熱処理の炉
陶磁器の焼結炉
高真空の炉
焼結炉の付属品
炭化ケイ素の炉
CVDのコータ
真空の熱い出版物の炉
亜鉛の溶融炉
わたしたち に つい て
会社プロフィール
工場 ツアー
品質管理
連絡 ください
japanese
english
français
Deutsch
Italiano
Русский
Español
português
Nederlandse
ελληνικά
日本語
한국
العربية
हिन्दी
Türkçe
indonesia
tiếng Việt
ไทย
বাংলা
فارسی
polski
ニュース
家へ > ニュース > 企業ニュース ひとくちに「成膜」といっても、PCDとCVDでは機能が大きく異なります。
イベント
ニュース
事件
連絡 ください
shirley.xiao@zzrde.com
86-0731-22506328-22506328
今連絡してください

ひとくちに「成膜」といっても、PCDとCVDでは機能が大きく異なります。

2026-09-21

最新の企業ニュース ひとくちに「成膜」といっても、PCDとCVDでは機能が大きく異なります。

主な理由:

  1. PVDは主に物理的手段で原材料を除去し,ウエファーに輸送する.
  2. CVDは,ガス状の前駆物質が表面で化学反応を継続的に行うことを可能にします.

材料が表面にどのように到達し 膜が形成される場所や 成長を止めるメカニズムなどです


プロセス:

  1. PVD: 固体源から材料を抽出する PVD は物理蒸気堆積の一般用語です蒸発は材料を蒸発させるために熱源または電子束を使用し,噴射ではプラズマイオンを使用して標的を爆撃し,標的原子をノックアウトします.フィルムを形成する種は真空で運ばれ,最終的にウェーファー表面に凝縮されます.
  2. CVD:ガスは表面に到達した後,連続して反応してフィルムを形成する.CVDは化学蒸気沉着を表す.前駆物質は,ガスの流れと共に,円盤の周辺に移動し,境界層を通り過ぎ,表面に吸収,分解,または反応する.固体は円盤に堆積する.揮発性副産物も 枯渇している間.

問い合わせを直接私たちに送ってください.

テレ：86--16673365810
メール：shirley.xiao@zzrde.com
ウェチャット
わたしたち に つい て
会社プロフィール
工場 ツアー
品質管理
サイトマップ
Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd
株洲市Ruideerは焼結炉の作成を専門にするPMの企業の専門の製造業者である。
できるだけ早く連絡します
プライバシーポリシー 中国 良質 珪華のヒップの炉 提供者 著作権 2019-2026 sinterhipfurnace.com . 複製権所有。