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HTCVD シリコンカービッド CVD SIC エピタキシ成長炉 多重温度制御ゾーン

CVDのコータ
2024-11-12
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#統合されたCVDのコータ #耐久力のあるCVDのコータ #CNCの炭化物用具CVDのコーティング装置
HTCVD シリコンカービード (CVD SIC) エピタキシ成長炉 この装置は,炭素基/セラミック基の材料のシリコンカービードコーティングに使用されます.特に半導体の表層にシリコンカービッドが堆積し,エピタキシアル受容体とエッチリング. コーティング率は下流顧客にとって非常に重要な指標であり,設備の生産能力と直接関係しています.私たちの機器は,1時間50ミクロンの沉積速度を達成することができます... もっと見る
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HTCVD シリコンカービッド CVD SIC エピタキシ成長炉 多重温度制御ゾーン
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