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cooling water system (281)  オンライン メーカー

脱ろう機能の高温真空の焼結炉

構造: 単一の部屋、horizentalタイプ

次元: 500*500*1800

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MT-CVD HT-CVD コーティングオーブン コーティング品質が高く,カスタマイズ可能な原子炉

コーティングの温度: 200-1050℃

冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ

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Hf Zr と Si コドポジションの 900-1050C 化学蒸気アルミニゼーションオーブン

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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700〜1050Cのプロセス温度を持つCVDオーブン

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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カスタマイズされたCvdラボ真空炉 化学蒸気堆積 Cvdコーティングオーブン

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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TiC TiN TiCN a-AL2O3 と K-AI2O3 コーティングのための高度なCVD/CVI蒸気堆積炉 700~1050Cのプロセス温度で

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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中国の工場 ISO CE 証明書 最大作業温度 2500C 温度

マックス.作業温度: 2500℃

温度均一性: ≤±5℃

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良い価格 1500C CVD SIC シリコンカービッドの成長のためのエピタキシ成長炉 1000*1000*1500mm有効空間 オンライン ビデオ

1500C CVD SIC シリコンカービッドの成長のためのエピタキシ成長炉 1000*1000*1500mm有効空間

効果的空間 (mm): 1000*1000*1500

熱力 (KVA): 300

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良い価格 精密性 1800C シリコンカービッド反応シンタリングオーブン ≤±5C 温度均一性 オンライン ビデオ

精密性 1800C シリコンカービッド反応シンタリングオーブン ≤±5C 温度均一性

マックス.作業温度: 1800℃

温度均一性: ≤±5℃

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良い価格 高温制御ガス圧圧シンタリングオーブンの製造者 シリコンカービード/ナイトリド オンライン ビデオ

高温制御ガス圧圧シンタリングオーブンの製造者 シリコンカービード/ナイトリド

パッケージの詳細: 木製ケース

受渡し時間: 4〜5ヶ月

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高いオートメーションの炭化ケイ素の炉、産業真空の炉の暖房力320 KVA

名前: 高真空の炉

Max.temperature: 1800℃

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最高2000kgのAC380V/50Hzの真空の圧縮の炉。見掛け密度

部屋のサイズ: カスタマイズされる

製品名: ガス圧力焼結炉

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5-20um 化学蒸気堆積塗装機 塗装温度200~1050°C

コートタイプ: CVD

コート厚さ: 5-20um

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良い価格 多機能 1MPA ガス圧力 周期的な加熱 真空 シンタリング オーブン 中国 ヒップ オーブン メーカー オンライン ビデオ

多機能 1MPA ガス圧力 周期的な加熱 真空 シンタリング オーブン 中国 ヒップ オーブン メーカー

使える空間: 300*300*1000mm 400*400*1200mm 500*500*1800mm

熱帯: 2/3 ゾーン

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3つの地帯の温度調整320KVAの高温真空の炉

構造: 単一の部屋、horizentalタイプ

次元: 400*400*1600

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