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high vacuum furnace (472)  オンライン メーカー

超硬合金のためのユーザー フレンドリーの製陶術の真空の焼結炉

使用法: 焼結炉

保証: 1年

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良い価格 高温真空蒸気堆積炉 最大温度範囲 1100C オンライン ビデオ

高温真空蒸気堆積炉 最大温度範囲 1100C

リアクター: 2pcs

最高温度:: 1100℃

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700〜1050Cのプロセス温度を持つCVDオーブン

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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化学蒸気堆積塗装炉 セメント/タングランカービッド切削ツール

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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高い自動MIM焼結炉の冷却期間300-420min/480min

名前: MIM焼結炉

色: 白い

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良い価格 6MPA 脱ワックス圧力 シルコン用シルコン用非シルコン用シルコン半導体シリコン酸塩 オンライン ビデオ

6MPA 脱ワックス圧力 シルコン用シルコン用非シルコン用シルコン半導体シリコン酸塩

温度: 1550°C~2200°C

マックス.充電負荷: 500kg/1200kg/1500kg/2500kg

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シリコンカービッドCVD塗装炉,グラフィット受容器またはエッチリング用

パッケージの詳細: 木製ケース

受渡し時間: 5〜6ヶ月

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MT-CVD HT-CVD コーティングオーブン コーティング品質が高く,カスタマイズ可能な原子炉

コーティングの温度: 200-1050℃

冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ

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良い価格 1500C CVD SIC シリコンカービッドの成長のためのエピタキシ成長炉 1000*1000*1500mm有効空間 オンライン ビデオ

1500C CVD SIC シリコンカービッドの成長のためのエピタキシ成長炉 1000*1000*1500mm有効空間

効果的空間 (mm): 1000*1000*1500

熱力 (KVA): 300

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TiC TiN TiCN a-AL2O3 と K-AI2O3 コーティングのための高度なCVD/CVI蒸気堆積炉 700~1050Cのプロセス温度で

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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ハニーコムセラミックCVDコーティングオーブン 700~1050Cのプロセス温度とオプションのオフガスニュートライザー

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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グラファイト材料のための高温産業浄化炉

マックス.作業温度: 2400℃

温度均一性: ≤±10℃

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Hf Zr と Si コドポジションの 900-1050C 化学蒸気アルミニゼーションオーブン

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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モリブデンは金属の焼結炉に使用可能なスペース400*400*1500/500*500*1800mmをしました

名前: 金属の焼結炉

使用可能なスペース(mm): 400 × 400の× 1500/500 × 500の× 1800

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超硬合金の、陶磁器およびステンレス鋼プロダクトのための特別な珪華HIPの炉

超硬合金: 切削工具、鉱山用具、摩耗の部品、型材料

陶磁器: 産業製陶術、陶磁器、精密陶磁器アルミナ陶磁器窒化珪素陶磁器ジルコニア

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