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良い価格 高温塗装プロセス機器 プリキュアとプロセスガス TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S オンライン ビデオ

高温塗装プロセス機器 プリキュアとプロセスガス TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど

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良い価格 電気抵抗加熱CVDコーティングマシン 1000°Cまで高温コーティングのための中国とターンキープロジェクト オンライン ビデオ

電気抵抗加熱CVDコーティングマシン 1000°Cまで高温コーティングのための中国とターンキープロジェクト

総電源: 約40/50/60/80KW

コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど

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良い価格 中国のサプライヤー タングスタンカービッド 高温ガス圧圧シンタリングオーブン 1-20MPA オンライン ビデオ

中国のサプライヤー タングスタンカービッド 高温ガス圧圧シンタリングオーブン 1-20MPA

パッケージの詳細: 木製のケース

受渡し時間: 5-6か月

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良い価格 高温真空蒸気堆積炉 最大温度範囲 1100C オンライン ビデオ

高温真空蒸気堆積炉 最大温度範囲 1100C

リアクター: 2pcs

最高温度:: 1100℃

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非メタル・セラミック/Sicの炭化物のための専門の高温真空の炉

名前: 高温及び高真空の焼結炉

指定: RDE-GWL-5518

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良い価格 高級CVDコーティングマシン 陶磁基板 強いコーティング 粘着 総電源 約40/50/60/80KW オンライン ビデオ

高級CVDコーティングマシン 陶磁基板 強いコーティング 粘着 総電源 約40/50/60/80KW

コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど

コーティングの密着性: 強い

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電気暖房真空コーティングシステム 5-20umコーティング厚さと400kgの負荷重量

コーティングの温度: 200-1050℃

冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ

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MT-CVD HT-CVD コーティングオーブン コーティング品質が高く,カスタマイズ可能な原子炉

コーティングの温度: 200-1050℃

冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ

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良い価格 高温合金塗装室 化学蒸気堆積塗装機械 バルフスタンカービッド切削ツール オンライン ビデオ

高温合金塗装室 化学蒸気堆積塗装機械 バルフスタンカービッド切削ツール

前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

コーティング装置の大きさ: カスタマイズ可能

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電熱CVDコーティング機械 チタンカービッド (TiC) チタンナイトリド (TiN)

制御システム: PLC

電源: AC380V/50HZ

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PLC化学蒸気堆積コーティングマシン 2セット 水冷凍コンデンサートトラップ

冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ

コーティングの温度: 200-1050℃

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5-20um 化学蒸気堆積塗装機 塗装温度200~1050°C

コートタイプ: CVD

コート厚さ: 5-20um

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精密な流量制御のためのBronkhost MFC付きの電気暖房表面塗装機械

電源: AC380V/50HZ

コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3

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0.1-1.0MPa 塗装圧力 CVD塗装機 200~1050°C 塗装温度

コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3

コートタイプ: CVD

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CVD真空塗装機 AC380V/50Hz 電源 ±2mbar 塗装圧の均一性

コート厚さ: 5-20um

コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3

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良い価格 化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス オンライン ビデオ

化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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