high temperature coating process equipment (47) オンライン メーカー
前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
総電源: 約40/50/60/80KW
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
コーティングの密着性: 強い
コーティングの温度: 200-1050℃
冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ
コーティングの温度: 200-1050℃
冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ
前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング装置の大きさ: カスタマイズ可能
冷却システム: 2組の高性能Water-cooled凝縮物のトラップ
コーティングの温度: 200-1050℃
電源: AC380V/50HZ
コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3
コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3
コートタイプ: CVD
コート厚さ: 5-20um
コーティング材料: チタニウムの炭化物(TiC);チタニウムの窒化物(錫);チタニウムは浸炭窒化する(MT/HT-TiCxNy);α-Al2O3
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
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