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特別セラミクスガス圧縮シンターストーブ 最大温度は2000C

形成剤: パラフィン,PEG,ゴム,C12H22O5nなど

温度の測定: W-Re 5/26 熱対+赤外線ピロメーター

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真空の脱ろう/H2脱ろう機能の高性能の金属の焼結炉

名前: 金属の焼結炉

有効なスペース: カスタマイズされる

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カスタマイズされた設計産業焼結炉の温度の変化の≤ ±5°C

名前: 産業焼結炉

焼結の後の超硬合金: 気孔率:A00-A02

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放射能冷却期間の≤の6/8h高温炉、焼結炉のプロセス臨時雇用者の変化の≤ ±5°C

名前: 金属の焼結炉

パッケージの詳細: 特別な木の場合のパッキング

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WRe5-26熱電対の測定モードの耐久の真空の熱処理の炉

温度の測定モード: WRe5-26熱電対

名前: 真空の熱処理の炉

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超硬合金のためのユーザー フレンドリーの製陶術の真空の焼結炉

使用法: 焼結炉

保証: 1年

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良い価格 SIC シリコンカービッド 高温真空シンタリング 保護大気 熱処理炉 オンライン ビデオ

SIC シリコンカービッド 高温真空シンタリング 保護大気 熱処理炉

塗料の色: グレー,ブルー,ホワイト,ブラック

炉殻の使用寿命: 20年

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TiC TiN TiCN a-AL2O3 と K-AI2O3 コーティングのための高度なCVD/CVI蒸気堆積炉 700~1050Cのプロセス温度で

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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ハニーコムセラミックCVDコーティングオーブン 700~1050Cのプロセス温度とオプションのオフガスニュートライザー

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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グラファイト材料のための高温産業浄化炉

マックス.作業温度: 2400℃

温度均一性: ≤±10℃

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Hf Zr と Si コドポジションの 900-1050C 化学蒸気アルミニゼーションオーブン

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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陶磁器ステンレス鋼/精密のためのコレクション率98%の珪華HIPの炉にワックスを掛けて下さい

名前: 珪華のヒップの炉

真空の漏出率: 1Pa/h、2Pa/h、3Pa/h

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横の設計ガス圧力焼結炉の最大吸入圧60棒

名前: ガス圧力焼結炉

最高。働き圧力(棒): 60

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高い自動MIM焼結炉の冷却期間300-420min/480min

名前: MIM焼結炉

色: 白い

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カスタマイズされたシステムが付いている信頼できるガス圧力焼結炉

使用法: 熱処理の炉、焼結炉、金属のアニーリング

重量: 2~20T

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