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Temp.of deposition((℃): 900-1050
Process pressure(mbar): 100-300
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前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
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プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
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プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
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プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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