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冷却時間: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((空炉,冷却 シンテリング温度1450〜100°C) 水温≤26°C,水圧2-3bar
最大温度: 2000℃
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前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング装置の大きさ: カスタマイズ可能
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塗装方法: 化学蒸気堆積 (CVD)
総電源: 約40/50/60/80KW
前駆物及びプロセスガス: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
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総電源: 約40/50/60/80KW
コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
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コーティング基板: メタル,セラミック,ガラスなど
コーティングの密着性: 強い
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
プロセス温度 (°C): 700〜1050
塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
プロセス温度 (°C): 700〜1050
前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
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作業スペース: 400*400*1200mm,または顧客のニーズに応じてカスタマイズ
作業圧: 60棒
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