真空の焼結炉工場, 良い価格を買う MIM焼結炉製品

500-1500kg見掛け密度が付いているRDEの熱処理の焼結炉

使用法: 焼結炉、熱処理の炉、真空の炉

保証: 12か月

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作り出してRDEの歯科詰物のようなサーメットは焼結炉に金属をかぶせる

パッケージの詳細: 特別な木箱

受渡し時間: 5-8か月

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カスタマイズされたCvdラボ真空炉化学蒸気堆積 Cvdコーティングオーブン

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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ハニーコムセラミックCVDコーティングオーブン 700~1050Cのプロセス温度とオプションのオフガスニュートライザー

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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700〜1050Cのプロセス温度を持つCVDオーブン

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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化学蒸気堆積塗装炉セメント/タングランカービッド切削ツール

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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化学蒸気堆積塗料炉 TiCL4,AICL3の前駆物およびプロセスガス

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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TiC TiN TiCN a-AL2O3 と K-AI2O3 コーティングのための高度なCVD/CVI蒸気堆積炉 700~1050Cのプロセス温度で

プロセス温度 (°C): 700〜1050

塗装の種類: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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ロールシールホイールCVDコーティングオーブン,CO前駆物と第二段階ガス配送器

プロセス温度 (°C): 700〜1050

前駆物及びプロセスガス: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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シリコンナイトライドセラミックシントリングオーブン 60bar 圧力とカスタマイズ可能な作業スペース

作業スペース: 400*400*1200mm,または顧客のニーズに応じてカスタマイズ

作業圧: 60棒

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1200Cのセラミック基板のAMB結合のための先進的な真空溶融炉

最大作業温度 ((°C): 1200

温度均一性 (°C): ≤±3

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シリコンナイトリドのセラミック基板のシンターリングのためのガス圧圧シンターリングオーブン,軸承ボール,ボールバルブボディ

最大作業圧 (MPa): 1〜10

マックス.作業温度: 2000

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CE ISO 高温真空ガス圧圧シンタリングシリコンナイトライド陶磁炉

最大作業圧 (MPa): 1〜10

マックス.作業温度: 2000

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工業用真空グラフィティゼーション炉

作業温度最高 (°C): 2500

到達真空度(Pa): 1

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精密温度制御真空熱処理溶接炉最大作業温度 1200C 温度均一性 ≤±3

最大作業温度 ((°C): 1200

温度均一性 (°C): ≤±3

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粉末金属工業工業用暖房設備耐熱炉

最大作業圧 (MPa): 1〜10

マックス.作業温度: 2000

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